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      氯化氫
      氯化氫
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      • 氯化氫
      • 氯化氫

      氯化氫

      化學(xué)式:HCl

      純度規(guī)格:5N

      用途:清洗、刻蝕

      主要應(yīng)用領(lǐng)域:集成電路(LOGIC/DRAM/3D NAND)

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      產(chǎn)品種類:

      產(chǎn)品標(biāo)簽:


      產(chǎn)品詳情

      氯化氫純度可達(dá)5N5,主要應(yīng)用于大規(guī)模集成電路清洗、刻蝕工藝。

      以品質(zhì)為基石,開拓全球市場

      目前,派瑞特氣公司擁有單條年產(chǎn)能超過3000噸的高純?nèi)獨怏w生產(chǎn)線,擁有高純六氟化鎢規(guī)?;a(chǎn)線,擁有三氟甲磺酸系列產(chǎn)品研發(fā)生產(chǎn)基地,建設(shè)了高純鎢制品中試生產(chǎn)線,實現(xiàn)了企業(yè)大宗制氣的技術(shù)突破,已成為國內(nèi)特氣行業(yè)產(chǎn)品系列豐富、生產(chǎn)能力大、市場覆蓋面和占有率高、持續(xù)創(chuàng)新能力強(qiáng)的企業(yè)。

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      推薦產(chǎn)品

      公司主要從事電子特種氣體及三氟甲磺酸系列產(chǎn)品的研發(fā)、生產(chǎn)和銷售,主要產(chǎn)品包括高純?nèi)?、高純六氟化鎢、高純氯化氫、高純氟化氫、高純四氟化硅、高純氘氣、高純六氟丁二烯、高純八氟環(huán)丁烷、高純電子混合氣等電子特種氣體,以及三氟甲磺酸、三氟甲磺酸酐、雙(三氟甲磺酰)亞胺鋰等含氟新材料。


      六氟化鎢

      化學(xué)式:WF6

      純度規(guī)格:6N

      用途:沉積

      主要應(yīng)用領(lǐng)域:集成電路(LOGIC/DRAM/3D NAND)


      氯化氫

      化學(xué)式:HCl

      純度規(guī)格:5N

      用途:清洗、刻蝕

      主要應(yīng)用領(lǐng)域:集成電路(LOGIC/DRAM/3D NAND)


      氦氮混氣、氙氫混氣、氧氦混氣、氪氖混氣、氬氙氖混氣等

      純度規(guī)格:6N

      用途:刻蝕、退火、光刻等

      主要應(yīng)用領(lǐng)域:集成電路(LOGIC/DRAM/3D NAND)、顯示面板、光纖


      三氟化氮

      化學(xué)式:NF3

      純度規(guī)格:5N

      主要用途:清洗、刻蝕

      主要應(yīng)用領(lǐng)域:集成電路(LOGIC/DRAM/3D NAND)、 顯示面板

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