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      三氟化氮
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      +
      • 三氟化氮
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      • 三氟化氮
      • 三氟化氮

      三氟化氮

      化學式:NF3

      純度規(guī)格:5N

      主要用途:清洗、刻蝕

      主要應用領域:集成電路(LOGIC/DRAM/3D NAND)、 顯示面板

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      產品詳情

      高純三氟化氮主要應用于大規(guī)模集成電路和顯示面板等制造過程中的清洗、刻蝕工藝,具有良好的選擇性、蝕刻速率,純度一般需要達到4N,公司已實現5N 級三氟化氮的量產,憑借優(yōu)異的產品品質,多年來穩(wěn)定供應境內外集成電路和顯示面板知名客戶,在業(yè)內樹立了技術領先、產品優(yōu)質、客戶信賴的品牌形象。

      以品質為基石,開拓全球市場

      目前,派瑞特氣公司擁有單條年產能超過3000噸的高純三氟化氮氣體生產線,擁有高純六氟化鎢規(guī)?;a線,擁有三氟甲磺酸系列產品研發(fā)生產基地,建設了高純鎢制品中試生產線,實現了企業(yè)大宗制氣的技術突破,已成為國內特氣行業(yè)產品系列豐富、生產能力大、市場覆蓋面和占有率高、持續(xù)創(chuàng)新能力強的企業(yè)。

      以品質為基石,開拓全球市場 以品質為基石,開拓全球市場 以品質為基石,開拓全球市場

       

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      推薦產品

      公司主要從事電子特種氣體及三氟甲磺酸系列產品的研發(fā)、生產和銷售,主要產品包括高純三氟化氮、高純六氟化鎢、高純氯化氫、高純氟化氫、高純四氟化硅、高純氘氣、高純六氟丁二烯、高純八氟環(huán)丁烷、高純電子混合氣等電子特種氣體,以及三氟甲磺酸、三氟甲磺酸酐、雙(三氟甲磺酰)亞胺鋰等含氟新材料。


      三氟化氮

      化學式:NF3

      純度規(guī)格:5N

      主要用途:清洗、刻蝕

      主要應用領域:集成電路(LOGIC/DRAM/3D NAND)、 顯示面板


      六氟化鎢

      化學式:WF6

      純度規(guī)格:6N

      用途:沉積

      主要應用領域:集成電路(LOGIC/DRAM/3D NAND)


      氯化氫

      化學式:HCl

      純度規(guī)格:5N

      用途:清洗、刻蝕

      主要應用領域:集成電路(LOGIC/DRAM/3D NAND)


      氦氮混氣、氙氫混氣、氧氦混氣、氪氖混氣、氬氙氖混氣等

      純度規(guī)格:6N

      用途:刻蝕、退火、光刻等

      主要應用領域:集成電路(LOGIC/DRAM/3D NAND)、顯示面板、光纖

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